德國(guó) MLase 準(zhǔn)分子激光器 MLI 500 ARF 工作環(huán)境
MLase 是紫外光醫(yī)療和工業(yè)產(chǎn)品供應(yīng)商。自 2007 成立以來(lái), MLase 一直致力于開(kāi)發(fā)和生產(chǎn)創(chuàng)新型高質(zhì)量激光和光系統(tǒng),這是高度專(zhuān)業(yè)化的專(zhuān)家團(tuán)隊(duì)多年經(jīng)驗(yàn)的結(jié)晶。 MLase AG 為客戶(hù)提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品,同時(shí)考慮到新的技術(shù)。 MLase AG 的質(zhì)量管理符合 ISO 13485:2016 標(biāo)準(zhǔn)。
"ARF" 在激光技術(shù)中通常是指氬氟化物激光器,屬于準(zhǔn)分子激光器的一種。 ArF 激光器使用氬氟化物( ArF )氣體作為激光介質(zhì),通常在紫外光區(qū)域產(chǎn)生激光。
ArF 激光器的工作波長(zhǎng)通常在 193 納米附近,這個(gè)波長(zhǎng)范圍對(duì)于許多應(yīng)用非常重要。例如,在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域, ArF 激光器被廣泛應(yīng)用于光刻技術(shù),用于將圖形圖案投影到半導(dǎo)體芯片上,以便進(jìn)行微影和制造。
設(shè)計(jì) ArF 準(zhǔn)分子激光器需要考慮到氬氟化物的化學(xué)特性以及紫外光的高能量特性。工作環(huán)境對(duì)于 ArF 激光器同樣也具有重要意義,通常需要保持在高度潔凈、低振動(dòng)、低溫度變化和低濕度的條件下。
ArF 準(zhǔn)分子激光器通常被用于需要高能量、高分辨率和微米級(jí)別的精確度的應(yīng)用領(lǐng)域,比如半導(dǎo)體制造、激光微加工、科學(xué)研究等。
Mlase MLI 500 ARF 準(zhǔn)分子激光器
參數(shù): ArF
波長(zhǎng)(納米): 193
最大。重復(fù)率 (Hz) : 500
穩(wěn)定的脈沖能量 (mJ) : 6
穩(wěn)定的脈沖功率 (W) : 3,0
能量穩(wěn)定性 (sigma, %) : 2
光束尺寸 (FWHM, V x H mm) : 6x3
光束發(fā)散( FWHM , V x H mrad ): 2x1
脈沖持續(xù)時(shí)間( FWHM )( ns ): 5-10
型號(hào)示例:
Mlase 準(zhǔn)分子激光器 MLI 5 00 ARF
Mlase 準(zhǔn)分子激光器 MLI 5 00 KRF
Mlase 準(zhǔn)分子激光器 MLI 200 KRF
Mlase 準(zhǔn)分子激光器 MLI 1000 KRF
Mlase 準(zhǔn)分子激光器 MLI 200 A RF
Mlase 準(zhǔn)分子激光器 MLI 1000 ARF
德國(guó) MLase 準(zhǔn)分子激光器 MLI 500 ARF 工作環(huán)境